densoku的原理及特點(diǎn)分析

發(fā)布日期：2023-09-10      瀏覽次數(shù)：607

densoku的原理及特點(diǎn)分析

電解膜厚儀測量原理

膜厚是通過陽極-陰極電解法熔化鍍膜來測量的，這是一種應(yīng)用“定律"測量鍍層厚度的方法。（陽極電解電路見圖1。）在鍍膜結(jié)束時，測量部分以恒定電流熔化，因此膜金屬消失，當(dāng)?shù)讓咏饘俪霈F(xiàn)時，陽極電壓發(fā)生變化，這個電壓檢測到變化，測量結(jié)束。 待辦事項。（見圖2）





電解式膜厚儀特點(diǎn)

• 雖然是破壞性測量方法，但測量簡便，可以測量多層電鍍。

• 可測量雙鎳、三鎳各層膜厚及電位差

• 可分別測量純錫層和鍍錫銅時形成的合金層的厚度。

• 能夠測量X射線無法測量的鍍層厚度（最大300μm）。

• 通過使用電線測試儀，可以測量細(xì)電線上的電鍍膜厚度。

使用示例

• 測量鍍錫線（鍍錫銅線）上純錫層的厚度

• 汽車外飾件中Cr/Ni/Cu三層鍍層的測量，以及Ni鍍層中雙鎳、三鎳電位差的測量。

• 無損膜厚計測量的交叉檢查

• 相關(guān)產(chǎn)品介紹


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